经营范围: 真空物理气相离子沉积技术的研究开发;生产溅谢靶、多弧靶、溅射薄膜(以上不含限制项目)。
股东名称 | 类别 | 认缴出资额 | 实缴出资额 | 持股占比 |
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变更前:暂无记录
变更后:暂无记录
来源:网络媒体 2019-08-29
来源:网络媒体 2019-08-26
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